APPLICATION FOR CLEANING USE


半導体向けフォトレジスト剥離洗浄【オゾンマイクロバブル水】


↑ フォトレジスト剥離洗浄実験

↑ 反射防止膜の洗浄除去実験

オゾンガスはそれ自身の高い酸化力による優れた洗浄力があることは一般的に知られています。

オゾン(O3)は酸素(O)の同素体で、空気や酸素(O2)よりも比重が大きく、水への溶解度も570mg/Lと高く水に溶けやすいガスです。オゾンガスは不安定なため、異なる物質と接近するとオゾンは酸素原子1つを放出して相手物質を酸化させることにより強力な殺菌力を発揮します。しかしオゾンガスはより安定な酸素に変化しやすいため、水にオゾンを溶解させたオゾン水は短時間で酸素に変化してしまい高い洗浄力を維持することができません。

 

このオゾンガスをマイクロバブル状態にして水中に極小サイズで高密度分散させることにより、オゾンが本来持っている高い洗浄力を長期間維持できる洗浄水の製造に成功しました。

 半導体ウエハーのフォトレジストは剥離が困難であるため強アルカリ性の薬液を使うのが一般的ですが、強力な洗浄力を持つオゾンマイクロバブル水を使用することで廃液処理コストが大幅に削減できます。

 

オゾンマイクロバブルは人体への安全性・毒性試験をクリアしておりますので取り扱いも容易で、日用的な殺菌除菌用途から半導体ウエハーのフォトレジストや反射防止膜の剥離洗浄といった半導体用途まで幅広く使用することができます。

 

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